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大尺寸显示面板光刻机外观
平板显示领域光学薄膜
金属网格（metal mesh）纳米银透明导电触控薄膜
此机型主要面向平板显示、光学薄膜和印刷电子等领域，典型加工产品为：大尺寸掩模铬板（MASK）、透明导电触控（metal mesh）模具、印刷电子精密镍网、显示屏外围纳米银浆引线等。此光刻机应用的典型加工线宽1~3um，其加工精度介于半导体集成电路和普通印刷（PCB、丝网印刷）之间，最大加工幅面可支持第10代面板尺寸（2880×3100mm），光刻胶厚度最厚可达10um以上，并且可通过灰度光刻工艺支持斜坡开口制作。
与国内外同类设备相比，我公司的此型设备具有低成本、高精度和高效率的综合优势。该机型填补了国内相关领域的空白，使得同类的设备的价格从千万元级别下探到百万元级别，极大推动了光刻技术和工艺向各个泛半导体行业的推广应用。
大尺寸显示面板光刻机加工平台/大尺寸（米级）平板显示掩模铬板
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性能 |
参 数 |
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加工幅面 |
典型1400*900mm，可定制 |
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最小线宽 |
0.5um（更小线宽可定制） |
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典型加工速度 |
10 cm2/min@0.5um分辨率 |
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XY轴定位精度 |
分辨率20nm，重复精度<100nm |
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Z自动聚焦精度 |
<0.3um |
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激光波长 |
355nm |
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空间光调制器SLM |
DMD 1920 x 1080 @10.8um像素单元 |
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数据文档格式 |
DXF , GDSII , BMP（单色/256灰度） |
