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概要:

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一、全息拍摄光刻系统

全息拍摄光刻是光刻系统的中特殊类型，其典型的应用是全息记录再现和各种光栅器件（包括平面光栅和曲面光栅）的制作。其主光路一般为多光束干涉光路，而非投影成像光路，因而可获得相对更大的光刻视场（可达10厘米级）、更小的线宽（极限为1/4波长）以及更长的焦深，是微纳器件制作的一项重要手段。我们可提供全息拍摄光刻系统，包括：深紫外光源、多光束干涉光路、环境隔绝系统、条纹锁定模块等。同时，也可提供各种光栅器件，它们广泛应用于光谱分析、计量标定和激光脉冲压缩等特定用途。

二、成像+干涉光刻机型（数字全息光刻）

通过将成像光路和衍射器件结合，可以实现对干涉光场轮廓的精确控制，甚至可以实现干涉光场的像素级（单条纹 or单点）控制。此技术可实现数字全息（点阵全息），广泛用于全息防伪、印刷包装和三维显示等领域。另外其纳米级图形可以制作各种功能器件和超材料，例如：表面疏水、表面抗反光、LED图形化衬底（PSS）等。