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产品中心 - 光刻机模块 - 投影成像镜组
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投影成像主光路
投影成像镜组采用无限远校正光路，有利于提升视场和像差校正。结合专利技术的分光布局，最大程度地降低了附属光路对主光路的成像品质的影响。光学设计过程中，将照明光路和DMD器件纳入总体设计，针对特定激光波长（多波段）专门优化，获得了接近衍射极限的最小线宽和极佳成像品质。以25X倍微缩系统为例，全视场设计畸变<0.05%(1英寸画幅)，实测畸变<0.1%，可支持最小线宽约300nm(@405nm，NA=0.8)。像方采用远心光路设计，有利于增大焦深和保证图形尺寸精度的稳定性。
投影成像系统具有良好的兼容性和扩展性。可在主光路中集成像质检测和对焦检测光路，并且可以在光路中插入光场调制光学元件，实现成像+干涉等复合光刻系统。可实现各种曝光模式，例如：矢量扫描、干涉光刻(全息防伪、金属纹理)、灰阶光刻（浮雕结构、二元光学器件制作）。
投影成像系统采用前后级分离式镜组，后级物镜可更换不同类型，实现加工效率、最小线宽、曝光深度等加工参数的一机多用。成像倍率覆盖超宽的范围，最小0.3倍，最大250倍。
投影成像光路主镜头ZEMAX优化设计
实际成像品质展示：视场畸变<0.1%（左图）； 最小线宽<300nm（右图）
