产品中心 - 光刻机模块 - 自动对焦模块

概要:

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光刻机主镜头通常具有较大的NA值，导致镜头焦深(DOF)很小，一般仅几um（约±3um@NA=0.5，约±1um@NA=0.8）。为了获得精细的线宽和良好的图形质量，自动聚焦模块不可或缺。同时，高速移动、较大的基板起伏和浮尘颗粒等具体现场状况都对自动聚焦的性能提出了很高的要求。

市售的多种激光位移传感器均可以实现微米级的检测精度，但是位移传感器与光刻机主镜头无法同轴布置，这往往导致不可预测的测量误差。

在半导体领域，一种常见的同轴对焦检测方案如下左图所示，其检测位置与光刻机主镜头的视场中心同轴，但是检测光并不穿过光刻机主镜头，而是位于外侧。其主要问题是：1、光刻机主镜头必须具有较长的工作距离，为检测光预留空间。2、检测光为大角度掠射方式，对待测表面的平整度要求很高，对灰尘也非常敏感。

在我们的自动对焦模块中，检测光路与曝光主镜头原位同轴，确保了检测的可控、实时响应和适应起伏基板表面。

采用高速CCD图像处理实现对焦状态实时检测，刷新速度>200Hz。采用先进的PID软件控制算法，控制敏捷精确。软件适应性强，采用不同软件参数即可适应各种类型基板表面，可滤除颗粒物等异常扰动。集成离线和在线双重检测控制，加工前预先检测基板平整度，为自动聚焦提供3D导航数据。检测精度高达0.1um。典型跟随误差<0.3um。