产品中心 - 光刻机 - 科研型光刻机

概要:

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此机型主要面向集成电路、微光学、微纳结构和生物医疗等领域，典型加工产品为：12寸以下掩模铬板（MASK）、芯片封装、衍射光学器件、纳米压印模具、生物微流道芯片等。加工线宽可小于0.5um，并且具有较高的加工速度。可选配对准光路，支持读取标靶套刻，对准精度优于±2um。

此机型非常适合院所和企业的研究机构的微纳加工快速制作。与之对比，掩膜曝光机（Aligner）的最小曝光线宽只能达到1~2um，而且容易划伤产品。而步进式曝光机（Stepper）价格昂贵，并且需要预前制作图形掩模板。其灰度光刻工艺支持衍射光学器件所需的多台阶结构，并且避免了多层掩模板套刻的繁琐。

与国内外同类设备相比，我公司的此型设备具有低成本、高精度和高效率的综合优势，为新兴领域的光刻应用提供强大的推动力！